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    反滲透工藝流程
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    分類:反滲透設備

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    產品詳情

    1.反滲透設備是將原水經過精細過濾器、顆粒活性碳過濾器、壓縮活性碳過濾器等,再通過泵加壓,利用孔徑為1/10000μm(相當于大腸桿菌大小的1/6000,病毒的1/300)的反滲透膜(RO膜),使較高濃度的水變為低濃度水,同時將工業污染物、重金屬、細菌、病毒等大量混入水中的雜質隔離,從而達到飲用規定的理化指標及衛生標準,是人體及時補充水分的選擇.所以人們稱這種產水機器為反滲透純凈水機。

       反滲透是一種現代新型的純凈水處理技術。通過反滲透元件來提高水質的純凈度,清除水中含有的雜質和鹽。我們日常所飲用的純凈水都是經過反滲透設備處理的,水質清澈。

       世界上使用反滲透技術的國家是美國,發明了以動力差為動力的膜分離技術。隨著該技術的推廣,我國開始使用反滲透技術。市場上的純凈水設備都是采用的反滲透膜處理技術,并且在我國經過了一定的改良和設計創新。技術已經非常成熟。

    反滲透純凈水設備中設計了一種反滲透膜。膜兩側的壓力不同,通過兩側的壓力為動力,壓迫原水通過反滲透膜,鹽的濃度低的會向濃度高的鹽方向滲透,能夠達到的平衡狀態下,就是液體的滲透壓。當含有的鹽水一側的壓力對于另一側的滲透壓力時候,就會發生反方向的流動,就產生了反滲透過程。

    反滲透純凈水設備都是采用了這種技術,采用了自動供水和斷水的智能化控制,這就是純凈水設備

    2、系統組成:

       預處理:一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質,達到反滲透的進水要求。預處理系統的設備配置應該根據原水的具體情況而定。

    反滲透:主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼(壓力容器)、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質,使出水滿足使用要求。

    清洗:主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當反滲透系統受到污染出水指標不能滿足要求時,需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。

    電氣控制:是用來控制整個反滲透系統正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。

    3、工藝流程:

       原水罐:儲存原水,用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質。同時緩沖原水管中水壓不穩定對水處理系統造成的沖擊。(如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應)。

       原水泵:恒定系統供水壓力,穩定供水量。

       多介質過濾器:采用多次過濾層的過濾器,主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物等顆粒在20um以上的物質,可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設備的產水質量,延長設備的使用壽命。

       活性炭過濾器:系統采用果殼活性炭過濾器,活性炭不但可吸附電解質離子,還可進行離子交換吸附。經活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量(COD)由15mg/L(O2)降至27mg/L(O2),此外,由于吸附作用使表面被吸附復制的濃度增加,因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及農藥污染物和除去水中的三鹵化物(THM)以及其它的污染物。同時,設備具有自我維護系統,運行費用很低。

       離子軟化系統/加藥系統:R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用,為防止濃水端特別是RO裝置最后一根膜組件濃水側出現CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數而結晶析出,損壞膜原件的應有特性,在進入反滲透膜組件之前,應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽,SiO2,硫酸鹽的晶體析出.

       精密過濾器:采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質去除,使RO系統等后續設備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯,目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質除去。防止其進入反滲透裝置損壞膜的表面,從而損壞膜的脫鹽性能。

       反滲透系統:反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般是水)通過反滲透膜(或稱半透膜)而分離出來,因為這個過程和自然滲透的方向相反,因此稱為反滲透。反滲透法能適應各類含鹽量的原水,尤其是在高含鹽量的水處理工程中,能獲得很好的技術經濟效益。反滲透法的脫鹽率提高,回收率高,運行穩定,占地面積小,操作簡便,反滲透設備在除鹽的同時,也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。

       臭氧殺菌器/紫外線殺菌器(可選):殺滅由二次污染產生的細菌徹底保證成品水的衛生指標.

       原水 原水箱 原水泵 多介質過濾器 (石英砂過濾器)活性炭過濾器 軟水處理器(添加阻垢劑裝置) 精密過濾器 高壓泵 一級反滲透(RO)裝置 紫外線殺菌裝置(臭氧殺菌裝置) 用水點

    4、主要用途

       ⒈制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;

       ⒉制取熱力、火力發電鍋爐,廠礦企業中、低壓鍋

     





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